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更新時間：2023-08-23 
瀏覽次數：822orc 半導體光刻機用途：
WL-CSP,IGBT,CIS等的 6/8/12 英寸光刻。
特長：
1.寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)。
2.搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1)。
3.最多8Field的拼接設計格式。
4.光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響。
| 型式 | PPS-8200/8300 |
|---|---|
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| 解像力 | 2.0 µmL/S(感光材厚2.0 µm) |
| NA（開口數） | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長 | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復對位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
| 主要特注選項規格 | 反面對位功能系統 晶圓邊緣曝光 晶圓不曝光功能 薄晶圓搬送系統 GEM通信對應 在線對應 |
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