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  • UM365-HMark 紫外線監控器
    UM365-HMark 紫外線監控器

    ark 紫外線監控器UM365-HM 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號,配備通信功能,并以安裝在設備中為前提進行設計。

    更新時間:2024-07-11
  • LS-HF-Wark 白色LED光源檢查臺型號
    LS-HF-Wark 白色LED光源檢查臺型號

    ark 白色LED光源檢查臺型號LS-HF-W 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號,配備通信功能,并以安裝在設備中為前提進行設計。

    更新時間:2024-07-11
  • LS-HF-1.5ark 白色LED光源檢驗用
    LS-HF-1.5ark 白色LED光源檢驗用

    ark 白色LED光源檢驗用LS-HF-1.5 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號,配備通信功能,并以安裝在設備中為前提進行設計。

    更新時間:2024-07-11
  • AT750ark UV燈標準光源(750W)
    AT750ark UV燈標準光源(750W)

    ark UV燈標準光源(750W)AT750 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號,配備通信功能,并以安裝在設備中為前提進行設計。

    更新時間:2024-07-11
  • MS20LX-365ark UV-LED表面輻照通用
    MS20LX-365ark UV-LED表面輻照通用

    ark UV-LED表面輻照通用MS20LX-365 它是使用 UV 固化粘合劑粘合光學部件和微型部件的理想選擇。它是一款輕巧緊湊的型號,配備通信功能,并以安裝在設備中為前提進行設計。

    更新時間:2024-07-11
  • Awill-Vark UV-LED光源點照射通用
    Awill-Vark UV-LED光源點照射通用

    ark UV-LED光源點照射通用Awill-V 實現長壽命和高功率??! 光纖光源類型實現了有史以來高級別的照度! 實現了 350W 金屬鹵化物燈光源的約 2 到 2.5 倍的照度(與我們公司相比)。 沒有金鹵燈、氙氣燈、高亮度LED等不可替代的光源。 請借此機會嘗試您因光照不足而放棄的項目。

    更新時間:2024-07-11
  • SMAP-ⅡF東洋研磨材TOYO 打磨機光澤出專用機
    SMAP-ⅡF東洋研磨材TOYO 打磨機光澤出專用機

    日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1 東洋研磨材TOYO 打磨機光澤出專用機 用途:支持各種應用 特長 -寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換) -搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1) -最多8Field的拼接設計格式 -光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響

    更新時間:2025-02-22
  • SMAP-A1東洋研磨材TOYO 打磨機超微細形狀専用機
    SMAP-A1東洋研磨材TOYO 打磨機超微細形狀専用機

    日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1 東洋研磨材TOYO 打磨機超微細形狀専用機  用途:支持各種應用 特長 -寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換) -搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1) -最多8Field的拼接設計格式 -光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響

    更新時間:2025-02-22
  • SMAP-IV東洋研磨材TOYO大型工件兼容機器
    SMAP-IV東洋研磨材TOYO大型工件兼容機器

    日本kofloc高精度流量計RK1400 系列 東洋研磨材TOYO大型工件兼容機器 ■目標流體:氣體N2、空氣、H2、He、Ar、O2、CO2等液體H2O ■最大流量:氣體5mL/min至100L/min、液體5mL/min至2L/min ■精度:±2% FS ?內置于設備中 ?實驗室內的流量確認用 ?半導體相關設備用 ?生物技術用

    更新時間:2025-02-22
  • SMAP-III東洋研磨材TOYO 出色平衡中型機器
    SMAP-III東洋研磨材TOYO 出色平衡中型機器

    日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1 東洋研磨材TOYO 出色平衡中型機器 用途:支持各種應用 特長 -寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換) -搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1) -最多8Field的拼接設計格式 -光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響

    更新時間:2025-02-22
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